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上海微电子成功研制出了新一代的国产光刻机中国科技在崛起

发布日期:2021-08-11 01:58   来源:未知   阅读:

  网飞解密 UFO?解了个寂寞,这些年,美国一直时刻地关注着中国科技方面的动向,对我国采取技术封锁的措施,不过,我们及时地意识到这事情,并且定了在四年内要实现芯片自给率要达到百分之七十的目标。对于如此艰巨而又远大的目标,我们中国真的能够在四年之内实现吗?

  聊到芯片的话题,就不得不谈及光刻机。现阶段,我们国家大致上能够对制程为28nm以上的芯片进行大规模的生产,而对于中芯国际的制程为14nm芯片还是处于风险试产阶段,还是会遇到比较大的流片风险。而对于7nm、5nm、2nm这类更先进的芯片,我国制造更为困难。导致如此境地的最根本的原因就是我国没有先进的EUV光刻机。在我国芯片制造领域如此艰难的时刻,忽然传来了“喜讯”,这一下让我国整个芯片制造领域有了新的希望。

  在国家遇到光刻机瓶颈的时候,中科院和各个科研单位联合起来组成了技术攻关小组,把光刻机列进了科研清单里。有所了解的朋友,可能都知道,全球拥有先进的光刻机的国家并不多,由此可见,一个国家要是想要自主研制成功出一台光刻机是十分不容易。在我们科学家不断地努力下,上海微电子终于成功地研制出了新一代的国产光刻机。该国产光刻机能够批量地生产出90纳米的芯片,占据了我国国内绝大部分的光刻市场。值得一说的是,上海微电子拥有一台能够与ASML的DUV光刻机相提并论的,能够生产出28nm~10nm,甚至是通过多层曝光技术就能制造出7nm芯片的新一代光刻机。而且这台28nm的光刻机所使用的完全是国产的光源技术,其光源波长更是能够达到193nm的程度。

  在六月上旬的时候,我国提出一种名为“快速光学邻近效应修正技术”。该技术可以说是非常厉害,在全球范围内是属于顶尖技术了。这项技术的诞生即有利于按照摩尔定律继续发展集成电路芯片,还表明了中国在半导体关键领域当中能够攻关技术的能力。此外,来自于中科院的龙芯团队成功研制出了新一代的指令系统架构,这不仅是在芯片架构领域当中推翻了ARM以及英特尔的垄断地位,而且还标志着我国在芯片架构领域中的全新突破。

  接下来,我们国家为了能够早日地实现国产化芯片的宏伟目标,还在上海建立了“东方芯港”,该港是我国国内目前为止最大的芯片产业基地。照着势头发展,我相信在不久的将来,我国将在芯片领域里占据一个十分重要的位置。香港最快开奖结果查询

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